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[零组件/半导体] 台积电计划于2026年量产1.6纳米芯片,或最先用于AI

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    发表于 2024-4-29 08:56:54 | 显示全部楼层 |阅读模式
    4月24日,台积电在美国加州圣克拉拉举行的北美技术论坛上,发表一种名为TSMC A16(相当于1.6纳米)的新型芯片制造技术,预计于2026年量产。
    据悉,台积电在论坛上披露其最新的制程技术、先进封装技术、以及三维集成电路(3D IC)技术,凭借此领先的半导体技术来驱动下一代人工智能(AI)的创新。
    其中,台积电A16技术结合领先的纳米片晶体管及创新的背面供电(backside power rail)解决方案,可以大幅提升逻辑密度及性能。台积电表示,相较于N2P制程,A16在相同Vdd(工作电压)下,速度增快8-10%,在相同速度下,功耗降低15-20%,芯片密度提升高达1.10倍,以支持数据中心产品。
      

    因AI技术对算力需求的增长,台积电开发新的A16芯片制造工艺的速度比预期更快。这意味着人工智能(A)芯片制造商可能是A16芯片技术的第一批采用者,而不是智能手机制造商。
    对此,台积电执行副总经理暨共同营运长米玉杰在论坛上表示,该技术将从晶圆背面向运算芯片输送电力,有助于加快人工智能(AI)芯片的速度。
    值得一提的是,尽管英特尔将第一个获得ASML的新型High NA(高数值孔径)EUV光刻机,但台积电无需采用该设备即可实现A16芯片量产。
    此外,台积电也推出系统级晶圆(TSMC-SoW)技术,此创新解决方案带来革命性的晶圆级效能优势,满足超大规模资料中心未来对AI的要求。
    目前,台积电的芯片工艺规划涵盖了从当前的3nm技术到未来的1nm技术的发展路径,包括A16、N2、N2P、A10等多个技术节点,旨在不断提升芯片的性能和效能,同时满足不同领域客户的需求。
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