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[最新新闻] 10nm重头戏要推迟开场?台积电/三星/英特尔都面临同一个问

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    发表于 2017-3-3 10:19:19 | 显示全部楼层 |阅读模式
    对于全球智能手机芯片供应商来说,10纳米先进制程技术将是2017年的重头戏,但新一代手机芯片解决方案还没有现身抢市,各家晶圆厂10纳米制程良率却纷纷传出灾情,造成包括高通(Qualcomm)骁龙(Snapdragon)835、联发科Helio X30传出交货延宕,迫使三星电子(Samsung Electronics)Galaxy S8延后问世,更遑论排在后面出货的华为、苹果(Apple)、展讯等均将受到影响。


    消息人士指出,10纳米制程技术良率偏低的头痛问题,台积电、三星和英特尔这三家晶圆代工厂均面临同一问题。2017年计划抢先量产的三星,业界传出其10纳米制程良率同样不如预期。若第2季各家晶圆厂10纳米制程良率仍难见有效提升,2017年手机芯片大军挥舞10纳米制程大旗的戏码,恐怕会出师不利,甚至造成手机芯片厂不小的灾情。


    台湾媒体报道,台积电第1季10纳米制程技术良率,暂时无法达到具备经济量产价值的水准,这让国内、外芯片客户至今仍在与台积电业务代表论战,希望能用好的晶粒(good die)成本计算方式,来取代过去每片晶圆代工价格的方法。


    业内人士表示,10纳米制程技术良率无法有效提升,目前晶圆代工厂的责任较大,过去出现这种情况时,台湾晶圆代工厂为维持与客户的中、长期合作关系,通常会自行吸收一些成本,避免造成各家芯片客户的负担。



    据BlueFin Research分析师Steve Mullane在摄影仪器工程学会(Society of Photographic Instrumentation Engineers)论坛消息显示,英特尔10纳米量产设备预计下半年准备就绪,但尽管如此,英特尔至今仍未克服10纳米量产良率不佳的问题。英特尔原希望在2017下半年将10纳米制程导入量产,但受制于良率问题,Mullane估计,英特尔10纳米量产时程可能往后顺延2-3个月。


    目前全球晶圆代工市场正处于卖方市场,即便10纳米制程良率偏低,让客户难以忍受,但是国内、外IC设计厂商对此均三缄其口,不愿意在台面上进行口水战,更说明这一情况已是不能说的秘密。


    据了解,晶圆代工厂商已承诺客户将找出问题,预期第2季可望拉升良率,但手机芯片供应商对此仍相当谨慎,且纷纷作出最坏的打算,并准备一旦新款智能手机芯片出货发生青黄不接情况,可能采取的防范措施。

    手机供应链厂商指出,预期第2季采用10纳米制程技术量产的新一代手机芯片,占整体智能手机新品出货比重仅在10%以内,可能要到第3季10纳米制程手机芯片出货量才会明显拉升。


    目前采用10纳米以下更先进制程技术,对于智能手机芯片解决方案产生的最大效应,还是功耗明显降低。从高通骁龙835芯片的介绍中可知,与其上一代14纳米FinFET工艺相比,三星10纳米工艺可以在减少高达30%的芯片尺寸的基础上,同时实现性能提升27%或高达40%的功耗降低。而联发科曦力X30则采用台积电10纳米制造工艺,相较16纳米产品性能提升22%,功耗下降40%。随着手机产品对于功耗要求越来越高,而现阶段电池容量短期内恐无法有效提升,电池技术也难有效突破,各家手机芯片供应商面对先进制程技术昂贵的成本投入,只能闷着头拼工艺。


    全球晶圆代工厂10纳米制程技术良率表现出现瓶颈,芯片厂商预期2017年上半将很难明显好转情况下,加上2017年下半年又有苹果新款iPhone大单压阵,新一代手机芯片解决方案采用10纳米制程技术竞赛,在2017年上半年经历过抢快不易后,下半年恐将进入新一波的抢量赛局。

    来源:集微网
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    发表于 2017-3-3 11:34:39 | 显示全部楼层
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