SMIC和Synopsys交付28纳米HKMG低功耗参考流程,用IC Compiler II提供

xzcxnihd

亮点：
    ? 在最新发布的IC Compiler II中，取得了多项技术进步，在所有关键指标方面给出了优异的质量结果：更好的性能，更小的面积和降低的功耗。
    ? 于SMIC 28纳米工艺中使用预验证Synopsys Lynx设计系统技术插件，加快了设计导入和完成。
    2016年6月8日，中芯国际集成电路制造有限公司，中国内地规模最大、技术最先进的集成电路晶圆代工企业，与Synopsys有限公司共同宣布，其联合28纳米RTL-to-GDSII参考设计流程已完成推向市场的准备。这款针对28纳米高介电金属栅极工艺技术（HKMG）而开发的流程，由中芯国际和Synopsys深度合作研发完成。该流程基于 Synopsys公司的Galaxy设计平台，采用了IC Compiler II布局及路由解决方案、Design Compiler图像综合、StarRC提取解决方案、PrimeTime结束解决方案、以及IC验证器物理验证。
     IC Compiler II已在数以百计的设计应用中采用，它能解决目前高度敏感的市场投放时间需求，提供了优异的结果质量，显著的生产率提升，设计规划速度提高了10倍，执行速度提升了5倍，容量提升了2倍。参考流程由于采用了行业标准IEEE-1801 UPF（统一功率格式）功率意图，支持低功耗技术，如功率监控时钟树综合、功率门控和物理优化。通过采用参考流程，设计人员能够提高性能、功率效率和芯片密度，同时实现可预测的设计闭合。
     对于SMIG 28纳米HKMG工艺，Lynx技术插件拓展了参考流程，与Synopsys的Lynx设计系统一起，加快了设计导入和闭合，这是一种全芯片设计环境，提供了新颖的自动化和可视化特性。该插件包含额外的工艺技术信息，以及有代表性的流程和工具设置，有助于降低所需的时间，实现优化的设计结果。
    “设计人员需要能够处理高性能和低功耗需求的参考流程，”SMIC设计服务方面的资深副总裁汤天申如是说道，“随着 SMIC-Synopsys 28纳米参考流程”的发布，IC设计人员能够加快能够加快其设计投入生产的速度，它结合了SMIC的28纳米High-K金属栅极技术和Synopsys公司技术领先和的设计和IP解决方案。”
     “双方客户始终位于创新的最前沿，” Synopsys有限公司设计部门市场营销副总裁Bijan Kiani说道，“通过我方与SMIC的合作，我们提供了可靠的高性能、低功耗参考流程及Lybx技术插件，采用了我方行业领先的多种工具，包括IC Complier II，加快了设计闭合进程，促进了SMIC 28纳米制造工艺的就绪步骤。”
    可用性
     SMIC-Synopsys 28纳米参考流程现可从SMIC处获得。要想了解更多信息，请访问网站http://www.smics.com/eng/design/reference_flows.php。