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[最新新闻] 不为追求极致性能而生 论非旗舰处理器的成功之道

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发表于 2016-12-11 10:09:05 | 显示全部楼层 |阅读模式

2016-12-02 14:46 来源: 钛媒体
互联网头条哥

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导读: 回到我们的手机处理器,其实近几年芯片厂商称自己的“中端”处理器都是“为续航而生”,但为什么直到今年才说“旗舰”芯片拼极限性能,“非旗舰”芯片拼日常续航的模式“分化”已经初步成型呢?

  OFweek电子工程网讯 与如今手机不断追求的性能不同的是,2016年末,数款“非旗舰”处理器逐渐走进了用户的视野。
  11月30日,魅族发布了新智能手机魅蓝X,同时也带来了Helio P20芯片的全球首发。作为联发科的P系列新品,这也是一款“非旗舰”移动芯片。
  今天我们就来聊一聊,为什么这些““非旗舰”处理器”会如此备受关注?
  目前市面上各家新推出的“非旗舰”移动处理器,比较知名除了新发布的Helio P20,还有来自于高通的骁龙625、来自于(华为)海思的麒麟650。
  在厂商的宣传中,性能多数被轻描淡写,而“省电”“续航”“能效比”等词汇被厂商浓墨重彩地强调。仿佛在说市面上的手机“光(处理器)快是不行的,重要的是(电池)要持久”。
  
  厂商使用“非旗舰”芯片只是为了省电吗?是,但不全是。
  
  总览这些芯片,它们全部采用了64位A53架构的bigLITTLE(大小核)设计,由四颗低频A53核心和四颗高频A53核心构成。但是在ARM公版架构中,A53只能算是小核心,并非主打性能的大功率A72、A73核心。
  所以与其说这些“八核A53”的非旗舰处理器“省电”,倒不如说无法耗更多的电,来提供更高的性能。能耗上限这个“天花板”掉下来了,想多耗电也是件困难的事。
  先进的工艺
  为了将“省电”进行到底:这三颗移动处理器都采用了最新的三星14nm/台积电16nm FinFET制程。基于最新制程的红利,在相同的处理器频率下,耗电量要比早前的20nm、28nm都要更省电。
  为什么制程进步会让处理器更加省电呢?
  首先所谓“XX纳米制程”,就是IC(Integrated Circuit,集成电路)中晶体管的栅极长度。说得通俗些,就是衡量电路集成程度的一项指标。一般来说数字越小,代表电路的集成度也就越高。例如14nm制程理论上要比前代20nm更加先进。
  我们目前所使用的手机与电脑芯片,都是一种电容性质的元件。其内部是由无数的晶体管所组成,晶体管之间会形成电容。
  
  而更加先进的制程代表着晶体管大小以及元器之间距离的缩短。根据电容器的性质,缩减元器件之间的距离之后,晶体间的电容也会降低。随着电容的降低,晶体管所需要的导通电压也会相应降低,而晶体管动态功耗又与导通电压的平方成正比。
  也就是说,更为先进的制程,使得芯片在切换信号时更加灵活,需要的功率越小,能效比也就提高了。
  除此之外,Helio P20还支持了最新型的LPDDR4X(Low Power Double Data Rate 4X,低功耗双倍速率4X),也就是我们所说的LPDDR4X运行内存(Synchronous Dynamic Random Access Memory,SDRAM同步动态随机存储器)。
  
  LPDDR4X内存规格相比前代LPDDR4有两项提升:
  第一是内存带宽从3733Mbps提高到4266Mbps(分别对应双通道1866MHz 和 双通道2133MHz);
  第二是实现了输出供电电压(VDDQ)与工作电压(VDD)的分离,VDDQ 0.6V相比VDD 1.1V相差了近一半,降低了内存运行时的功耗,提高了能效比。
  不过,作为一款“非旗舰”芯片,Helio P20只做到了第二条,而在内存带宽上,仅支持最大双通道1200MHz(2400Mbps),并没有超过旗舰芯片(以骁龙820为例)的双通道1866MHz。
  也就是说,P20并没有实质提高内存速度,而是铁了心将“省电”进行到底。
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