砷化镓太火，稳懋技术参数险遭窃

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台湾地区桃园地检署日前接获检举，稳懋半导体公司营业机密遭窃，检方指派企业犯罪专组黄瑞盛检察官，指挥桃园市调查处进行侦查，发现是维修稳懋公司机台的干部及员工，利用进入工厂检修时，窃取工艺参数……
根据台湾媒体报道指出，日前桃园地检署接获检举，砷化镓半导体大厂稳懋的营业机密遭窃。经检方派员前往调查后，发现是维护稳懋内部生产设备公司的干部及员工涉案。最后，涉案人员在检方讯后收押一名干部，另一人交保。

12月12日，负责维护稳懋内部由芬兰 Picosun 公司所生产的原子层沉积（ALD）设备的台湾原晶公司，在进行例行的维护保养工作时，被指派前来进行维护工作的工程师，原本要趁机抄下ALD-D03机台内的生产参数，不过因为原本预定维护的机台内生产参数已经先行被稳懋所移除。

因此，该名工程师拿着稳懋给予的临时启动密码，去启动另一台不在排定维修行程中的ALD-D02设备，并拿出纸笔，准备抄下在其中的参数。过程中，被稳懋员工发现有异，整件事情才被揭发，而该名维护工程师也被移送警方侦办。

涉案工程师对窃密行为供认不讳，检方要求他交保释金6万元并限制离台出海。

之后，检方约询台湾原晶公司42岁庄姓副经理，认为庄某授意窃密，犯罪嫌疑重大，有逃亡、串证之虞，当庭逮捕，向法院申请羁押禁见获准。

检方21日再次发动搜索，兵分4路，约询3人，包括挂名副总经理的台湾原晶公司41岁林姓实际负责人，申请羁押禁见，但法官认为无羁押必要，无保释放林某。

稳懋在中国台湾是生产砷化镓半导体的大厂，为生产用于人脸识别的垂直腔面发射激光器（VCSEL）半导体的重要厂商，未来也是5G应用之重要技术产品。

因为在生产过程中，需要使用到 ALD 设备来进行晶圆镀膜的过程，而镀膜过程必须不断进行脉冲、气体流量控制等工作，因此，稳懋就自行研发出控制工艺过程中包括时间、温度等关键因素参数，以确保产品的品质，该项参数对稳懋在市场上的竞争力来说非常关键。