TA的每日心情 | 擦汗 前天 08:56 |
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受新型冠状病毒(COVID-19)肺炎疫情影响,导致数码相机销售惨,新品延后开卖,尼康(Nikon) 上年度营益暴减九成,相机事业陷入亏损,且 Nikon 预估相机事业今年度也恐无法摆脱亏损局面,将以海外工厂为对象裁员 700 人。
Nikon 28 日于日股盘后公布上年度(2019 年 4 月至 2020 年 3 月)财报:半导体(IC)用微影设备销售虽增长,不过因 FPD 微影设备销售大减,加上新冠肺炎疫情导致数码相机销售惨、新品延后开卖,拖累合并营收年减 16.6% 至 5,910.12 亿日圆,合并营益暴减 91.8% 至 67.51 亿日圆,合并纯益暴减 88.4% 至 76.93 亿日圆。
曾经的光刻机霸主
提到微影设备,大家都会想到光刻机。曾经Nikon,佳能(canon)等日系厂商是老牌光刻机霸主,不过后来被ASML后来居上。
在2011年时,《电子工程专辑》还报道Nikon雄心勃勃宣布其微影技术发展蓝图的新闻,当时他们与ASML还是针锋相对,互不相让。
当时ASML公司致力于将EUV技术推向22nm节点。但Nikon公司则力推其16或11nm节点设备(截图自EETimes Taiwan)
直到今天,半导体设备在尼康集团的收入中占比仍达38.8%,是第二大支柱。(图自:尼康官网)
80年代,日本光刻机还处于碾压美国竞争对手阶段,在硅谷成立的尼康精机,直接把战斗指挥部放到美国高科技行业的心脏。但是美资厂商铂金埃尔默(PerkinElmer)受Nikon冲击,份额从超过30%跌到不足5%,今天它已经完全放弃半导体设备业务,专注于健康检测设备。
而那时候IBM、AMD、德州仪器(TI)和英特尔(Intel)这些GCA的大客户,排着队跑到Nikon那拿货。Nikon和GCA各享30%的市场份额,这种一山二虎的局面没有维持多久,尼康就独自为王,占领超过50%的份额,一直到ASML崛起为止。
1984年,在Nikon春风得意的时候,ASML诞生在荷兰。
在这之前几年,飞利浦实验室研发出自动化步进式光刻机(Stepper)的原型,但对它的商业价值心里直敲小鼓,找P&E、GCA、Cobilt、IBM这些半导体界的大佬谈合作,没人愿意搭理。这时,荷兰一家叫ASM International的小公司主动要求合作。飞利浦犹豫了一年,勉强同意成立股权对半的合资公司,这就是后来的ASML。
飞利浦之所以愿意放低身价和一家名不见经传的小公司合作,原因有两个:一方面是飞利浦当时正和索尼主推更赚钱的CD,比小众的光刻机更有投资价值;另一方面,Nikon在光刻机市场只手遮天,老牌半导体设备厂商节节败退,雪上加霜的是,飞利浦当时正打算开始大规模裁员,糟糕的经济状况和恶劣的光刻机市场环境,使它不敢大手笔押注光刻机,因此与ASM International合作,不过是想占个坑观望而已。
穷困潦倒的ASML是如何翻身的?
ASML成立后,飞利浦没有拨付经费,甚至不提供办公室,31个员工就在飞利浦大厦外的简易木棚房办公。多年以后,ASML的CEO彼得·韦尼克(Peter Wennink)回忆公司初创时的境况,还忍不住说“穷困”。
在2000年之前的整个16年时间里,光刻机市场差不多都是Nikon的后花园,ASML占据的份额不超过10%。
直到时任台积电研发副总经理的林本坚提出“浸入式光刻技术”,利用现有成熟技术改造,给半导体设备制造商节省研发投入,并减小芯片制造商的导入成本。
“浸入式光刻”方案一出,基本上宣判了半导体界正在开发的各种“干式”微影技术方案的死刑,意味着此前投入巨量的资金和人力几乎打了水漂。美国、德国、日本等大厂们基本都拒绝采用,包括当时的Nikon。
但是作为新生力量的ASML表示愿意一试。
由于半导体芯片市场一直被摩尔定律驱赶,而英特尔又是摩尔定律的坚定支持者,“浸入式光刻”方案可以轻松突破157nm的障碍,产品出来后英特尔必将下单,加上台积电,ASML盘算着可以拿下两家龙头客户。
2004年,ASML和台积电共同研发成功全球第一台浸润式微影机。Nikon那一年也宣布采用干式微影技术的157nm产品和电子束投射(EPL)产品样机研制成功。
但ASML的产品属于改进型成熟产品,相对于Nikon的全新研发应用成本低,而且缩短光波比Nikon的效果还好(多缩短25nm)。结果,没人愿意买Nikon的产品,溃败由此开始,市场份额被ASML大口吃进。
2009年,ASML已经占据70%市场份额,Nikon则从行业老大变成小弟。Nikon的溃败,还间接拉低了日本半导体芯片厂商的竞争力,它们基本上都采用Nikon的光刻机。ASML的崛起,则直接带动台积电上升,并达到今天的高度。
Nikon被美国强行踢出“EUV朋友圈”
在和ASML关于“浸润式”和“干式”投影的技术路线争斗中,Nikon只是打了一场败仗,而让它真正一败涂地的,还是在EUV光刻机的研发中,被美国直接排除在外。
在 “浸润式光刻”方案中,光源采用波长为193nm的氟化氩激光。随着摩尔定律的推进,氟化氩激光的潜能很快被“浸润式光刻”榨干,半导体界需要寻找新的光源。
高功率二氧化碳激光器看起来非常适合,它发射的极紫外光波长为13.5纳米,仅为氟化氩激光193nm的1/14,前途简直不可限量。不过,极紫外光也不好伺候,比如:容易被许多材料吸收,需要在真空环境曝光;真空环境带来洁净度挑战;过短波长易产生绕射,进而造成掩膜、晶圆边缘过度曝光,带来良品率下降问题。
总之,新的光源带来一大堆新问题,其实这也是193nm氟化氩激光源一用就是几十年的原因。但极紫外光诱人的应用前景,促使摩尔定律的坚定拥护者英特尔早在1997年就开始下注,这也是Nikon悲剧的开始,ASML走运的起点。
英特尔和美国能源部共同发起成立EUV LLC组织,汇聚了美国顶级的研究资源和芯片巨头,包括劳伦斯利弗莫尔实验室、劳伦斯伯克利实验室和桑迪亚国家实验室等三大国家实验室,联合摩托罗拉(当时如日中天)、AMD等企业,投入2.25亿美元资金,集中了数百位顶尖科学家,只为研究一件事:极紫外光刻机到底可不可行?
考虑到美国光刻机公司日渐衰落,为避免ASML(佳能当时已排在其后)和Nikon中的一家独大,英特尔于是邀请ASML和Nikon一起加入。但美国政府担心最前沿的技术落入外国公司手中,因此反对ASML和Nikon加入EUV LLC。
ASML对美国政府许下一大堆承诺后,勉强进入了EUV LLC这个超级朋友圈当一个小角色。
Nikon则直接被拒绝进入。
这次事件对两家公司在光刻机市场的未来发展产生了深远影响。
Nikon相当于被美国直接排除在极紫外光刻机门外,否则在后来“浸入式光刻”技术上慢一拍后,它还是有可能借极紫外光刻机扳回一局,和ASML继续竞争的。
日本一桥大学创新研究中心的教授中马宏之曾深入比较研究过ASML和Nikon两家公司,发现ASML的微影机零件,90%是外包制造,远远高于Nikon。换句话说,ASML采用的是“无生产工厂模式”,它更多的是设计和组装。
Nikon辛辛苦苦自研做光刻机,却因为美国一句话彻底无缘EUV。
老老实实做数码相机都不得安生
此后,数码相机事业和镜头成了Nikon最主要的营收来源。
但近年来受到智能手机冲击,数码相机市场加速缩小,且受新冠肺炎疫情影响,预估 2020 年 4、5 月的销售量将大幅萎缩,相机事业预估恐将连续第二年陷入亏损,因此Nikon计划祭出进一步结构改革措施,将以海外工厂(东南亚工厂)为对象裁员 700 人。
Nikon 表示,上年度影像事业(相机事业、包含数码相机和更换用镜头)营收年减 23.7% 至 2,258.94 亿日圆,营损额为 171.53 亿日圆(前一年度为营益 220.69 亿日圆);精机事业(包含半导体、FPD 微影设备)营收下滑 12.7% 至 2,397.28 亿日圆,营益大减 42.8% 至 467.74 亿日圆。
就产品销售量来看,Nikon 上年度数码相机(单反+轻便型机种)全球销售量年减 33% 至 246 万台,单眼机种销售量减少 21% 至 162 万台、轻便型机种骤减 48% 至 84 万台。上年度 Nikon 更换用镜头销售量减少 16% 至 265 万支。
上年度 Nikon IC 用微影设备销售量为 45 台(前一年度为 41 台),FPD 用微影设备销售量暴减 61% 至 27 台(前一年度为 70 台)。
Nikon 表示,因新冠肺炎疫情影响,现阶段难合理估算业绩,因此暂缓公布今年度(2020 年 4 月至 2021 年 3 月财测预估。
日经新闻报导,Nikon 此次裁员对象为泰国工厂及寮国工厂,裁员人数分别为 500、200 人,相当于各工厂员工人数一成。
日本相机暨影像产品协会(CIPA)4月24日公布统计数据指出,因疫情冲击,民众减少外出、加上厂商工厂停工,拖累2020年3月份全球数位相机出货量(=日厂出货量)较去年同月腰斩(骤减52.2%)至59.75万台,连续第30个月呈现下滑,月出货量连续第3个月不到百万台、创2000年2月(44.97万台)以来新低纪录 |
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