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CMOS图像传感器(CIS)技术的创新不断拓展数字成像的发展前景,其需求最初由智能手机厂商推动,因为增强的照相功能可以让他们的设备区别于竞争对手。现在,CIS在汽车、安全、医疗和制造领域的市场也在不断增长。
微型CMOS图像传感器的功能可与人眼视网膜媲美,如今更可以与大型昂贵的照相设备竞争。相比智能手机,新的应用更加强调对先进CIS技术的需求。
CIS技术不仅可以捕获人眼能看到的图像,而且还可以捕获数据以支持许多新用例,从自动驾驶车辆和虚拟现实(VR),到下一代医学成像和高科技监视系统。
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图1:对先进CIS技术的需求来自多种应用。(来源:SK Hynix)
那么,如何才能确保CIS技术满足更高级应用的需求呢?首先,让我们快速了解一下CIS技术的工作原理,然后再重点介绍CIS独有的五种制造工艺技术,这些技术均需要不断地改进。
CIS工作原理
从最基本的层面上讲,CIS用来将相机镜头的光转换为数字数据,以创建可见的图像。当波长范围为400至700nm的可见光光能被聚集在硅衬底的光电二极管(PD)上时,CMOS图像传感器的硅表面将接收该光能,从而形成电子-空穴对。
在此过程中生成的电子通过浮动扩散(FD)转换为电压,然后再通过模数转换器(ADC)转换为数字数据。最后,数据被发送到处理器,以创建可视的数字描述,通常为图像。
CIS制造技术
生产这种复杂传感器需要特定的制造技术,通常分为五类。
1. 深光电二极管形成工艺技术
由于消费者对图像质量不断提出更高的需求,导致了业界的竞争加剧,各厂商争相提高移动CIS中的像素密度和分辨率,这种竞争反过来又进一步加速了CIS工艺技术的发展。为实现更高的图像质量,像素尺寸需要进一步减小,以便在相同大小的芯片上容纳更多的像素。
图2:光电二极管结构变化以及像素尺寸不断减小的示意图。(来源:SK Hynix)
为了避免图像质量的下降,深光电二极管的作用极为关键。为了在小像素中确保有足够的满阱容量(FWC),它的构图和实施技术难度级别远超现有的半导体存储器。为此,必须遵循高宽比率不断提高的行业趋势,确保掩模工艺技术达到超过15:1的高宽比,以阻止高能离子注入。
2. 像素-像素隔离工艺技术
对高清CIS来说,像素间彼此隔离的技术至关重要。不同的芯片制造商会采用不同的隔离技术,但如果隔离技术不佳,将可能导致图像缺陷,例如混色和散色。
越来越高的像素密度和分辨率成为普遍的需求,隔离便成为CIS市场中图像质量的重要标准。 除此之外,隔离工艺还会出现一些问题。因此,业界正在努力选择更好的设备,并开发新的解决方案以提高良品率和产品质量。
3. 彩色滤光片阵列(CFA)工艺技术
彩色滤光片阵列(CFA)是CIS领域独有的一种工艺,它在半导体存储工艺中并不常见。CFA工艺通常包括一个彩色滤光片(CF)和一个微透镜(ML),滤光片将入射光根据各自波长范围过滤为红色、绿色和蓝色,而微透镜则提高聚光效率。为了获得稳定的图像质量,需要评估R/G/B彩色材料,并研究出可以优化形状和厚度等参数的技术。
最近,一系列高质量且功能强大的CIS产品出现在市场上。它们基于Quad Bayer等技术,且辅以CFA的基本形式。
图3:彩色滤光片阵列由彩色滤光片和微透镜组成。 (来源:SK Hynix)
4.晶圆堆叠工艺技术
晶圆堆叠(即将两个晶圆粘贴在一起)是生产高像素和高清晰度CIS产品的一项重要技术。 对于高像素CIS产品,像素阵列和逻辑电路分别在单个晶圆上形成,然后在处理过程中采用晶圆键合技术将它们连接起来。
图4:晶圆堆叠极大地提升了CIS的性能。(来源:SK Hynix)
大多数CIS芯片制造商已经采用了晶圆堆叠技术,这项技术的各个方面仍在持续改进中。
5. CIS良率和质量控制技术
CIS产品开发和批量生产过程中最基本的要求之一是对金属污染的控制。由于CIS产品对污染的敏感度是存储产品的几倍,而且污染直接影响产品良率与质量,因此必须采用各种污染控制技术。
除此之外,等离子体损伤控制也很重要。由于在工艺过程中造成的损坏会导致图像性能下降(如热像素),因此有必要对关键工艺进行精确管理。
CIS的未来前景
毫不夸张地说,对于由CIS驱动的应用,其有效性将取决于工艺技术。而且,各种工艺相互交互的方式也有很大影响。仅仅优化制造工艺的某一方面是不够的,各种工艺必须全部优化才能实现有机互补。
不过,回报是巨大的。从制造业到医疗保健服务,再到监控,几乎每个领域都可以利用CIS新技术来改善。拥有对这个世界更丰富、更详尽的视野,各行各业的公司都将能够创建更智能、更先进的产品和服务,从而使终端客户和整个社会受益。 |
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