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[最新新闻] 挑战三星市场地位,美光开始规划导入EUV光刻机

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    发表于 2021-7-5 13:22:58 | 显示全部楼层 |阅读模式
    就在之前包括三星、SK 海力士等韩国存储器大厂开始启用EUV光刻机设备进行存储器的生产之后,现在美商美光科技准备也要加入采用EUV 光刻机的生产行列了。根据日前美光在财报会议上所说的,目前美光正跟EUV 光刻机大厂ASML 展开采购谈判工作,预计2024 年将开始生产采用EUV 光刻机所生产存储器。

    根据美光科技总裁兼执行长Sanjay Mehrotra 在日前的财报会议上的说法,过去美光一直在关注EUV 光刻机用于生产上面的进展,而且实际上之前也参与了EUV 技术的生产发展。而在观察到EUV 光刻机及整个生态系统成熟之后,美光就开始会在产品规划中加入EUV 光刻机来进行存储器的生产。而在本次财报会议上,美光也已经在2021 财年的的资本支出上略微提升到95 亿美元的金额,其中就是目前已经开始跟ASML 谈判购买EUV 光刻机的计划。不过,现在美光方面还没有公布细节。还有EUV 光刻机现阶段的供应吃紧,在晶圆代工大厂台积电、三星方面因为采购的数量较多,使得美光即便已经与ASML 完成采购谈判,要正式取得设备则还要等等。事实上,目前是台湾地区投资金额最大的外商美光,当前最新的存储器生产技术并是不使用EUV 光刻机,而是采用上一代深紫外(DUV) 光刻机来生产存储器。而这对于目前领先全球市占率的韩国三星级SK 海力士两家存储器大厂来说,非常关注美光不使用EUV 光刻机成功开发出10 纳米级的DRAM。因为ASML 的EUV 光刻机每部造价高达1.5 亿美元,生产的存储器会有较高成本。但美光采用DUV 光刻机就能生产同等级存储器产品,产品成本较便宜,也较竞争力将更具优势。而根据美光的计划,EUV 光刻机预计要到2024 年才会导入,首发将会用于1-Gama 的10 纳米级制程存储器上,而后面还会进一步扩展到更下一代的1- Delta 的10 纳米级存储器生产中。
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