国产光刻胶再获突破！可用于7nm工艺光刻胶通过验收

似水流年 · 发表于 2021-8-4 08:27:51

您需要登录才可以下载或查看，没有账号？立即注册

×

国产光刻胶再获突破！可用于7nm工艺光刻胶通过验收

7月29日，南大光电发布公告称，公司承担的国家科技重大专项(02 专项)已通过专家组验收。其中包括极大规模集成电路制造装备及成熟工艺、先进 7 纳米光刻胶产品开发与光刻胶供给链产业化。

据悉，这种光刻胶可用于90nm-14nm甚至7nm技术节点的集成电路制造工艺，已建成年产25吨产业化基地。

公告显示，ArF光刻胶材料广泛应用于高端芯片制造（如逻辑芯片、存储芯片、AI 芯片、5G 芯片和云计算芯片等）。

长期以来，国内高端光刻胶市场长期为国外巨头所垄断，对国内芯片制造具有“卡脖子” 风险。尽快实现先进光刻胶材料的全面国产化和产业化，具有十分重要的战略意义和经济价值。

此外，有关光刻胶产品知识产权及相关人才的培养。南大光电内部形成了由51人组成的ArF光刻胶研发及生产管理团队。在光刻胶成品的质量把控及良品率调控上，南大光电成功建成ArF光刻胶质量控制平台。

目前南大光电已具备年产25吨光刻胶成品的能力，其中包括5吨干式ArF光刻胶、20吨浸没式ArF光刻胶。

专利方面，截至2021年，南大光电申请专利总计91项、国内发明专利有81项、国际发明专利4项、实用新型专利6项（已授权）、制定团体标准3项、研制新产品2项。

王惠雄 · 发表于 2021-8-4 08:32:25

终于有光刻胶了

zeosv · 发表于 2021-8-4 08:40:16

7nm工艺光刻胶

loveme758 · 发表于 2021-8-4 08:52:49

maogege-chen · 发表于 2021-8-4 09:07:22

ljd1994 · 发表于 2021-8-4 09:31:45

oyyp · 发表于 2021-8-5 09:06:34

oyyp · 发表于 2021-8-5 09:07:09

一个个突破口

oyyp · 发表于 2021-8-5 09:08:01

必须实现中华民族伟大复兴

kevin2104 · 发表于 2021-8-5 15:45:45

		自动登录	找回密码
密码			立即注册

[最新新闻] 国产光刻胶再获突破！可用于7nm工艺光刻胶通过验收