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Ease:ARM和台积电在SoC方面领先英特尔-行业资讯

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发表于 2013-7-30 19:13:08 | 显示全部楼层 |阅读模式

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尽管一直到2015下半年,台积电 ( TSMC )都仍可能无法为ARM处理器提供可量产的FinFET技术,不过, ARM CEO Warren East表示,他并不担心于英特尔 ( Intel )在制程技术方面领先于其他所有代工厂。在FinFET 技术中,电晶体是垂直在晶圆表面上,这种方法被认为能改善电晶体性能,并减少关闭状态下的漏电流。英特尔已经采用22nm FinFET CMOS制程进行量产,在此同时,台积电则正试图为客户提高其平面28-nm CMOS产能。然而, Ease表示, ARM和台积电将在SoC技术竞争方面领先英特尔。“我们非常关注SoC的整合。就SoC而言,英特尔正在使用32nm high-k金属闸极平面CMOS进行生产。而台积电则使用28nm high-k金属闸极。这在我看来并不是什么重大的技术领先,不过,你确实可以说台积电在这方面是领先的。”East 表示,英特尔的22nm FinFET主要用来量产电脑晶片,但要将该技术用在包含大量周边电路的SoC上并不是件容易的事。英特尔目前拥有智慧手机和平板电脑专用的Atom-based 32nm Medfield 处理器。英特尔也预计2013年开始用22nm FinFET CMOS 制程生产采用Silvermont 架构的Atom 低功耗处理器。而Merrifield则很可能是首个采用22nm FinFET技术的高阶智慧手机专用处理器。而针对台积电的16nm FinFET ,以及联电(UMC)的20nm FinFET 制程,East表示,“目前还很难说何时针对ARM的FinFET技术能够就绪。”ARM处理器核心也支援由意法半导体(ST)开发的28nm全耗尽型SOI (FDSOI) ,目前正在转移到GlobalFoundries,预计之后将再微缩到20nm制程。
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