格罗方德7纳米测试良率达65% 合作锁定老伙伴AMD

shuszhao

因竞争对手台积电、三星陆续在2018年挺进7纳米先进制程，格罗方德（GLOBALFOUNDRIES）日前宣布，该公司的7纳米制程不但在测试良率已提升到65%。
日前，格罗方德首席技术长兼全球研发高级副总裁Gary Patton表示，目前格罗方德7纳米制程的7LP EUV技术已有积极进展。7纳米LP制程预期将比14纳米制程效能提升40%、功耗降低60%，目前7纳米测试良率已经提高到65%，将按计划进行EUV技术的商用和普及。
根据格罗方德先前公布，7纳米制程将在2018年推出，并在年底量产，Gary Patton表示将与客户AMD合作。
据了解，AMD目前选择全部产品都交给GF代工。其中，采用其最新的14 纳米工艺的包括 Ryzen 处理器，以及服务器领域的 EPYC 处理器。至于，GPU芯片方面，Polaris 北极星用的是GF 的28 纳米工艺，最新的 Vega 织女星则也是则是采用GF的 14 纳米工艺。
还有，AP 处理器部分，现有第7代处理器系由GF的28纳米工艺生产。根据未来的发展蓝图，将在2017年第4季推出的Zen APU，则将会改用GF的14纳米工艺生产。按照AMD的规划，Zen家族未来至少两代产品，包括Ryzen、EPYC都会继续交给GF代工生产，分别采用其7纳米、及7纳米+的工艺。
Gary Patton坦言，在EUV技术上，格罗方德的7纳米制程确实面临很多挑战，包括如何进一步提升良率、光罩防尘膜瑕疵等问题，必须努力克服才能投入大规模量产，目标是将良率提高到95%。
格罗方德目前采取分阶段采用EUV技术的策略，第一阶段将不采用光罩防尘膜（pellicle），第二阶段才会使用。
目前格罗方德20纳米、22纳米已进入量产准备阶段，且2018年底前已有15个设计定案，并陆续有135家客户展开初期接触。Gary Patton指出，目前12FDX性能已经90%达到目标，预计2018年下半年进入试产，2019年上半年正式量产。
格罗方德在中国的布局方面，受瞩目的成都晶圆厂Fab11（11厂）厂房施工建设历时8个多月，一期厂房即将于11月初封顶，项目进展十分顺利。预计在2018年完工时，将成为中国境内最大的晶圆厂，并成为中国最先进12寸晶圆厂之一。同时，Fab 11也将成为格罗方德22FDX制程的生产中心。
预计先期Fab 11会以生产0.13微米到0.18微米的主流成熟技术产品为主，每月产能为20,000片。到2019年下半年，将进行高度差异化的22FDX（FD-SOI）制程量产，届时产量将提高至每月65000片。