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继电器触点回跳消除电路 - 电源技术 - 电子工程师俱乐部

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发表于 2013-3-30 09:38:58 | 显示全部楼层 |阅读模式

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半导体技术的进展已使集成电路(IC)能够取代很多机械式继电器,但在任意极性的高电压大电流电路中,继电器仍然占据主导地位。然而,这类继电器的触点回跳会给下游电路带来麻烦。解决触点回跳的一种办法是把继电器与一个热插拔控制器结合起来。这种控制器在不关闭系统电源的情况下作为切换系统元件的手段,现在越来越流行。在图 1 中,一个继电器触点取代机械连接器的引脚。驱动电路使继电器闭合,而继电器的闭合则将热插拔电路的输入端连接到电源(本例中为 28V)。在输入电源达到有效电平之后热插拔控制器 IC1 使 p 沟道MOSFET 即Q1 可保持关断状态最少达 150 ms。这段延迟时间足以使继电器中的触点回跳消失。在 150ms 延迟之后,IC1 驱动 MOSFET 栅极,使输出电压以 9V/ms 的速率摆动。这种受控的斜坡速率使起动电流减至最小,从而降低了对热插拔控制器下游的电源、继电器和电容器的应力。

  
继电器触点回跳实例表明起动浪涌电流峰值约为 30A时出现3次触点回跳(图 2)。顶部曲线是单位为 10V/格的输出电压,下面曲线是单位为 5A/格的输入电流,而输出负载阻抗是与 100 μF 并联的 54Ω。在这些条件下使用图 1所示电路能得到更好的结果(图 3)。输出电压的延迟上升显而易见,没有触点回跳引起的间断。输入电流的变化大为减小,在稳定于稳态值 500 mA之前,其峰值不到 1.5A。
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发表于 2015-1-21 14:39:01 | 显示全部楼层
半导体封装纯水制备系统一直被应用在半导体封装清洗领域上面。自从EDI膜块技术出现以后,全世界范围内各类工业生产中已经有上万套EDI超纯水制备系统被应用其中,特别是在医疗制药工业、电子制造业等领域上应用数量较大,随着科技的发展,目前EDI超纯水制备系统在一些特种行业也开始被应用。

  半导体封装纯水制备系统重要性

  半导体产品指的是一种在室温下导电能力处于导体和绝缘体之间的物质。半导体材料有很多种,依照其化学物质含有量能够将其分为元素型半导体以及化合物型半导体两种。超纯水制备系统使用的是现如今最流行的EDI膜块制水技术,原水通过前端预处理以及反渗透膜单元处理之后,在通过EDI膜块的进一步深度处理,超纯水系统产出的水就是符合标准的超纯水。

  半导体封装纯水制备系统用途

  半导体封装纯水系统应用范围非常广泛,其中包括半导体物件的清洗、液晶显示屏清洗、线路板焊接用水、各种电子器件制造过程用水、微电子制造业用水、大规模集成电路制造以及清洗用水等。电路的精度越高,这个企业对用水质量的要求也就越高,现如今,中国对电子制造业用水标准共分了五个等级。

  半导体封装纯水制备系统在使用了超级流行的工艺之外,在操控方面也非常有优势,整套流程全部采用全自动操控的模式,因此相对同类产品更加省时省力。
文章来源:正源商城  http://www.zysce.cn
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发表于 2015-5-28 13:48:44 | 显示全部楼层
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