[零组件/半导体] 光刻中的“Ball Defect”

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家人们,先说题外话了,想到"Ball Defect",小编想说两句,就上期文章“光刻中的Line Defect”评论区也是挺精彩的,有人直接就说,发现line shape map,YE Litho Wet一起Highlight,我想说没错的,完全可以,这就意味着形成line shape 可以是Litho也可以是Wet,总之还是那句话,Line Shape是从defect map特征命名,并没有局限于哪块工艺。虽然看似废话,但这些,我认为是根本上的逻辑。
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画个示意图,上期文章补充一点,如果遇到现有LD Nozzle或者NLD Nozzle 造成,那么这个看起来很具有迷惑性,首先缺陷的分布与scan方向保持一致,还得硬头皮去对Defect map,其次就是,需要很巧合巧合的才能形成特别典型的line shape,a single line?很小的几率。大部分Map看起来像上图,其中红色箭头代表LD Nozzle or NLD Nozzle scan 方向,蓝色代表Nozzle。所以我没有将这类小几率,不太具有典型代表性的缺陷原因写进去。
一、光刻中“Ball Defect”
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上图认识一下,比较直观!言归正传,”Ball Defect“,今天我只说,发生在光刻区域的,暂不涉及其它工艺。什么是"Ball Defect”呢,从形貌描述的角度去定义,就是晶圆表面出现类似球状的缺陷,我们将这种缺陷定义为“Ball Defect”。
二、Ball Defect的形成原因
这类缺陷在光刻比较少见,所以处理这种case就体现出工程师的业务水平来了,我来总结一下,简单言之,就是有PR/Solvent等一些有机物(powder or mist)掉落到了晶圆表面。一定记住我这几句话!!!下面我归纳几个常见的查询chamber及其原因:
1)COT是第一元凶,EXH PIPE是否干净 EXH ISSUE;
2)HP,CP 问题,依旧排查 EXH,是不是过低?
3)Arm、Chamber dirty,几率极小极小掉落这么具有典型特征,球!!
综上所述,记住我最开始说的话,那些根本!不过我总结的这些原因,够你们用五年,没什么问题!
三、遇到这类缺陷,如何处理?
1)COT EXH Check,Pipe solvent clean,then take care of Coater EXH Status;
2)热板冷板 EXH低的问题,调高EXH,持续关注 Cup等status,看看是否继续掉落;
3)Arm,Chamber dirty类似掉particle,monitor 机台particle环境即可;


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