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本帖最后由 hdy 于 2025-5-23 19:19 编辑
由德国KIT孵化的SilOriX公司专注于面向下一代光互连的高速硅基聚合物混合调制器,这次报告的内容和OFC2025的内容差不多,所以就快速过一遍。 Al人工智能的爆发式增长超越信息和通信技术中任何已知的缩放定律,光互连极大限制AI集群扩展,高功耗问题成为数据中心能效的主要瓶颈,作为光互连核心组件的电光调制器,由于功耗和带宽限制,是实现互连的主要瓶颈。当下光互连对调制器提出严苛的要求,包括:紧凑尺寸(1mm)、高效(1Vpi)、高速(400Gbps/lane IMDD)和大规模制造(比较适合硅光,当前TFLN不具备)。综合之下,SilOriX将有机电光材料和硅光平台相结合,同时兼顾满足上述要求,为光互连提供高效解决方案。
SilOriX采用的有机电光材料具有超高线性电光系数(r33>1000 pm/V,与BTO接近),工艺流程高效简单(例如打印),可针对通信等不同应用进行定制化设计。其最主要特点是制作硅槽波导缝隙中填充有机光电包层材料,可制作高效(0.3Vmm)、节能(1Vpp,fJ/bit)的调制器结构。
另一个优势是,SOH工艺流程兼容全球主流硅光代工工艺,仅需代工方提供氧化物开口工艺即可实现集成,可为客户定制光子集成电路(PlC),用于封装和系统集成,通过合作伙伴代工厂访问PDK构建模块。
其主要流程是,首先在标准代工厂制作硅开槽狭缝波导,slot宽度通常为100-200nm,通过喷墨打印技术在晶圆表面涂覆有机材料,随后施加极化电压并加热至玻璃化转变温度,使材料分子在外加电场作用下发生极化,然后在电压不变情况下冷却,分子方向保持不变“冻结”,最终施加电场强度与光场模式高度重叠实现高效的折射率调制。
这里有个核心的问题,通过加热产生电场极化,那么材料的稳定性如何?类似于OLED的沉积保护层工艺,该有机材料通过可靠性测试,材料性能在数千小时测试中保持稳定,即使在芯片级10 dBm光功率注入下,器件可靠性没有问题。
经过测试,调制器的3dB带宽达74 GHz,6dB带宽可超过100 GHz,Vpi<1V,器件长度<1mm,自由载流子吸收<0.2dB。
该器件最大优势是可以实现CMOS 0.5Vpp Driver-less Operation,支持112Gbit/s PAM4数据传输,低于KP4阈值。
利用外置RF放大器,驱动电压1.6Vpp,在C波段实现192 Gbd PAM4、176 Gbd PAM6及176 Gbd PAM8传输。
在没有放大器情况下,驱动电压1Vpp,在O波段实现192 Gbd PAM4传输,这说明可以实现DSP直驱。
总而言之,Silorix的硅-有机混合电光调制器具有稳定性、无驱动操作、高带宽、高速率、高效率、超低能耗等优越性能,实现近单波长400 Gbps速率,不仅满足当前AI集群对调制器的高带宽低功耗需求,而且兼容硅光代工工艺,可以进行大规模生产,为光互连瓶颈提供突破性解决方案。
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